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硅片清洗

發(fā)布時(shí)間:2023-08-20
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    硅片清洗是一項(xiàng)重要的工藝步驟,用于去除表面的雜質(zhì)和污染物,保證硅片的純凈度和表面平整度。以下是常用的硅片清洗方法:
 
1. 雪花清洗機(jī)清洗:利用液體二氧化碳低溫的特性使硅片表面贓物剝離。
 
 
2. 酸堿清洗:先使用弱堿性溶液(如濃度為2%的氨水)浸泡硅片,去除有機(jī)污染物;接著使用弱酸性溶液(如濃度為2%的鹽酸)進(jìn)行浸泡清洗,去除金屬離子等無(wú)機(jī)污染物。
 
3. 超聲波清洗:將硅片浸泡在清洗液中,通過(guò)超聲波震蕩產(chǎn)生微小氣泡,從而加速清洗劑的滲透和溶解效果,達(dá)到清潔表面的目的。
 
4. DI水清洗:使用高純度的去離子水(DI水)對(duì)硅片進(jìn)行沖洗,去除殘留的清洗劑和離子雜質(zhì)。
 
5. 氮?dú)獯祾撸河眉儍舻牡獨(dú)鈱?duì)硅片進(jìn)行吹掃,去除水分和顆粒物。
 
6. 高溫烘干:將清潔后的硅片置于恒溫烘箱中,進(jìn)行高溫烘干,以確保表面干燥和無(wú)殘留物。
 
需要注意的是,在清洗硅片時(shí)要避免使用含有大量金屬離子、有機(jī)物或顆粒物的清洗劑,以免對(duì)硅片表面造成二次污染或損壞。同時(shí),在清洗過(guò)程中要嚴(yán)格控制工藝參數(shù),確保清洗效果達(dá)到要求。
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